CP-5000 — это современный тестер химико-механической полировки (CMP), предназначенный для анализа процессов полировки с использованием встроенного датчика трения и интегрированного 3D-профилометра. Прибор обеспечивает нанометровую точность анализа изменений поверхности, позволяя исследовать механизмы износа, трения и дефектов в режиме реального времени. Идеально подходит для исследований в области полупроводников и тонкоплёночных материалов.

LabEco Technology — поставщик лабораторного оборудования в Алматы, работающий по всему Казахстану. Компания предлагает современные решения для анализа материалов, включая подбор оборудования, консультации и внедрение технологий для научных и промышленных лабораторий.

CMP Platen for CMP tester

Обзор CMP тестера

CP-5000 позволяет проводить исследования процессов полировки с высокой точностью за счет контроля прижимной силы, скорости и подачи суспензии. Система объединяет несколько режимов полировки на одной платформе, включая широкий диапазон скоростей, замкнутый контур управления нагрузкой и автоматическую подачу абразивной суспензии. Встроенный профилометр позволяет анализировать изменения поверхности непосредственно в процессе испытаний.

Основные характеристики

Измерение коэффициента трения в реальном времени
Контроль прижимной силы и скорости
Интегрированный 3D-профилометр
Поддержка различных размеров пластин (wafer)
Контроль температуры и акустического сигнала в процессе

Ключевые особенности

Высокоточные датчики силы и контроль нагрузки
Держатель кондиционера с автоматическим выравниванием
Моторизированный стол XY с быстрой заменой образцов
Простое управление и готовые тестовые протоколы
Возможность создания пользовательских сценариев испытаний

Система датчиков

Тестер оснащён встроенными датчиками для анализа процесса полировки в режиме реального времени. Датчики крутящего момента позволяют точно определять окончание процесса, акустические сигналы помогают выявлять дефекты, а температурные датчики контролируют условия обработки поверхности.

Интегрированный 3D профилометр

Встроенный профилометр обеспечивает анализ поверхности с нанометровым разрешением. Поддерживаются режимы конфокальной микроскопии, интерферометрии, темного и светлого поля. Это позволяет анализировать шероховатость, износ и геометрию поверхности непосредственно в процессе испытаний.

cmp polisher pad void image from 3d optical microscope
Pad 1 Surface
cmp polisher pad image from 3d optical microscope
Pad 2 Complete Bump Feature
Wear mark progression with in-line 3d-profiler on rtec-instruments tester
3D Surface Change vs Test Runs

Применение

CP-5000 используется в полупроводниковой промышленности, микроэлектронике, производстве покрытий и научных исследованиях. Прибор помогает оптимизировать процессы полировки, повысить качество поверхности и снизить количество дефектов при производстве.