ELMO
Система с двойной камерой тлеющего разряда для подготовки сеток TEM. Обеспечивает универсальную оптимизацию свойств поверхности за счёт контролируемой плазменной обработки для улучшенной подготовки образцов.
Двойные камеры тлеющего разряда для универсальных процессов
Оснащена независимыми камерами тлеющего разряда в воздушной и паровой среде, что позволяет оптимизировать подготовку TEM-сеток для различных типов образцов и экспериментальных задач.
Оптимизация свойств поверхности
Обеспечивает точный контроль характеристик поверхности поддерживающих плёнок и сеток. Позволяет изменять поверхностную аффинность (гидрофильную или гидрофобную) и поверхностный заряд (отрицательный или положительный) в соответствии с требованиями образца.
Быстрая и воспроизводимая подготовка образцов
Оптимизирует рабочие процессы электронной микроскопии за счёт быстрой и стабильной обработки сеток. Исключает вариабельность при подготовке образцов, обеспечивая надёжные и воспроизводимые результаты визуализации.
Автономное и компактное устройство
Полностью автономная система с компактными габаритами, легко размещающаяся в любой лаборатории. Не требует внешнего оборудования, что упрощает установку и эксплуатацию.
Технические характеристики
Характеристики прибора
0 – 35 мА
Ø 60 мм
1 – 6000 секунд
Ø 80 мм × 60 мм (высота)
1,0 – 0,1 мбар
Датчик Пирани
Ручной и программируемый
Ø 6 мм
480 × 310 × 320 мм
12 кг
Характеристики вакуумного насоса
3,7 / 4,5 м³·ч⁻¹
2,0 × 10⁻³ мбар
450 / 550 Вт
25 кг